5立方氨分解制氫設(shè)備

簡要描述：5立方氨分解制氫設(shè)備原理簡單，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，操作簡便；應(yīng)用廣泛，滿足大部分氫氣使用的需求；

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2023-11-22
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　5立方氨分解制氫設(shè)備以液氨為原料，氣化后在催化劑作用下加熱分解，產(chǎn)生含氫75%、氮25%的混合氣。通過變壓吸附方法可進(jìn)一步制取純度為99.999%的純凈氫氣。

　　設(shè)備特點(diǎn)：

　　1、原理簡單，性能可靠、使用壽命長；

　　2、投資少，能耗小，省水省電；

　　3、使用方便；

　　4、運(yùn)用范圍廣，滿足大部分氫氣使用的需求；

　　5、運(yùn)行成本低。

　　技術(shù)指標(biāo)：

　　原料氨氣：

　　壓力——～0.5bar

　　露點(diǎn)——≤-10℃

　　產(chǎn)品分解氣：

　　壓力——～0.5bar

　　露點(diǎn)——≤-10℃

　　殘余氨——≤0.1%

　　分解氣量——1～1000Nm3/h

　　5立方氨分解制氫設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：

　　1、金屬熱處理：不銹鋼帶、各種精密鋼帶、鋼絲等鋼材和合金、銅管、銅絲、銅帶等退火的保護(hù)氣氛；

　　2、金屬還原：鎢鉬還原、鐵粉還原的還原氣氛；

　　3、粉末冶金：鐵基、銅基還原的還原保護(hù)氣氛；

　　4、其它：磁性材料、特種陶瓷、金剛石制品、硬質(zhì)合金中保護(hù)氣。

　氨分解制氫的原理

　　在一定條件下將氨進(jìn)行分解可以獲得75%H2、25%N2的氫氮混合氣體，其反應(yīng)式如下：

　　用此法制得的氣體是一種良好的還原性保護(hù)氣體，可以廣泛地應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)、冶金工業(yè)、機(jī)械工業(yè)以及其它需要保護(hù)氣氛的生產(chǎn)和科研部門中。

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